取得突破！中国成功研发出2纳米芯片，光刻机的

我国为了能够有一些更好的发展，现在其实有很多方面的努力，在现在的发展过程当中是有很多新技术的汇入的，而这样的技术汇入就有很多的一些科技领域。

​为了能够在这方面有更好的一些尝试，我国也在做着不同方面的努力，在我国这么多的一些努力当中，其实最让大家担心的就是在芯片制造领域的发展。

毕竟这一领域的技术发展是非常重要的，要是没有这方面的能力的话，是很难以继续往前进，而现在我国在这方面投入的也是比较多的，现在又获得了比较好的成效，一起来看一看吧。

说到芯片制造其实大家想起的就是我国的台积电和中芯集团，但其实除了这些之外，我国的中科院也在这一技术上坐着很大程度的研制，毕竟关乎科技，中科院有着更高的一些可信度，在技术研制和发展上也会更为迅速。

在这样的发展之下也取得了比较好的成效，并且这一次他们还研发出了2纳米的芯片，这一2纳米的芯片也被命名为垂直纳米环栅晶管，可以说是取得了突破性的进展，首先单看它的制造工艺来说，就已经突破了我们之前的芯片研制产业。

再加上这种芯片的制造物质，其实也是比较突破之前的，这一芯片一共有三种物质构成，所以它也叫做硅-石墨烯-锗基片，技术制造的突破领域为我国的芯片研制带来了更多的发展，可能有了这一款两纳米的芯片，在之后的一些发展上我国也会有一些更好的突破。

但其实在芯片制造领域，我国还有一个最限制发展的就是光刻机的研制，光刻机是流水生产线制造不可以缺少的机器，没有这一机器就不能够达到量产，再技术好的芯片也只能算得上是能看的，不能利用的话那么在之后的发展过程当中也不能够为人们带来怎样的生活改变。

但正是因为缺少光刻机，才让大家都觉得我国在这方面需要更多的一些技术突破，关于光刻机的技术突破，我们可能还需要一段时间，但现在有了另一方面的突破，也显得在光科技上我们需要有更多的努力了。

好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！